脉冲激光沉积（Pulsedlaserdeposition,PLD），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方...

准分子激光退火系统采用准分子激光作为光源，经过匀光、整形后获得极均匀的高能量密度线型激光束，可实现大面积样品均匀扫描。准分子激光退火系统输出波长短，光子能量大，样品吸收深度小，主要用于薄膜材料的退火或改性研究，如低温多晶硅薄膜退火、光电功能薄膜材料开发等。系统特点线扫描光束，可实现大面积样品均匀处理采用多级透镜整列匀光技术，光束均匀性好激光波长可选择308nm、248nm，351nm、193nm可定制线光束尺...

准分子激光器是目前用来制作光纤光栅最为适宜的光源。它可提供193nm和248nm两种有效的写入波长并有很高的单脉冲能量，可在光敏性较弱的光纤光栅上写入并实现光纤光栅在线制作。目前主要的成栅方法有：准分子激光干涉、光纤光栅的单脉冲写入、相位掩膜法等。我司生产的FBG系列准分子激光器可应用于光纤光栅刻蚀生产中，优点如下：1.光斑分布均匀、性能稳定、性价比高。2.维护方便、成本低、响应快，售后有保证。

系统概述激光剥蚀是微区分析的重要手段，是原位微区微量元素和同位素分析的重要发展方向。LA-193准分子激光剥蚀系统具备超高性价比，激光器完全实现国产化，软硬件支持与电感耦合等离子体质谱仪和光谱仪直接联用。193nm准分子激光属于深紫外波段的“冷激光”，高能量密度的均匀平顶激光能够剥蚀各类样品甚至是透明物质，如：高纯石英、萤石等样品。系统特点能量密度高达30J/cm2，可剥蚀石英、萤石等激光束能量分布均匀化...

系统概述激光剥蚀是微区分析的重要手段，是原位微区微量元素和同位素分析的重要发展方向。LA-193准分子激光剥蚀系统具备超高性价比，激光器完全实现国产化，软硬件支持与电感耦合等离子体质谱仪和光谱仪直接联用。193nm准分子激光属于深紫外波段的“冷激光”，高能量密度的均匀平顶激光能够剥蚀各类样品甚至是透明物质，如：高纯石英、萤石等样品。系统特点能量密度高达30J/cm2，可剥蚀石英、萤石等激光束能量分布均匀化...

系统特点EPM微标记系统是基于193nm准分子激光器的高性能系统主要由193nm深紫外准分子激光光源、光学传输系统、精密定位系统组成具有作用激光光源波长短、脉宽短、峰值功率高、能量密度大等特点特别适合于有机物、玻璃、陶瓷等材料表面的高精度微标记应用桌面放置，可选择193nm/248nm波长可软件定制，进行微沟道微孔等制作技术参数型号EPM激光波长193nm典型脉宽~10ns聚焦光斑最小30um能量密度>5J/cm2作用范围100mm*100mm位置精...