脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition, PLD），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。
脉冲激光沉积系统（PLD）：推荐光源可选我司PLD20、PLD30、PLD20L准分子激光器，真空腔体可选沈阳科仪PLD450型或LMBE450型等，此系统解决方案性价比超高，完全国产化，满足大部分材料薄膜的制备及其研究。
附件：大学老师发表的研究论文（使用盛方科技PLD准分子激光器系列配置的脉冲激光沉积系统）
序号 | 论文名称 | 期刊 | 发表单位 | 发表时间 |
1 | Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films deposited epitaxially on (110)-oriented SrTiO3 | Applied Physics Letters | 南京大学 | 2021 |
2 | Electroresistance in metal/ferroelectric/semiconductor tunnel junctions based on a Hf0.5Zr0.5O2 barrier | Applied Physics Letters | 南京大学 | 2021 |
3 | Pulsed laser deposited and sulfurized Cu2ZnSnS4 thin film for efficient solar cell | Solar Energy Materials and Solar Cells | 深圳大学 | 2021 |
4 | nanosecond laser-induced surface damage and its mechanism of caf2 optical window at 248 nm KrF excimer laser | Scientific Reports | 国防科学技术大学 | 2020 |
