准分子激光退火系统
  • 分类:解决方案
  • 作者:盛方科技
  • 发布时间:2026-07-22

系统概述

准分子激光退火系统采用准分子激光作为光源,经过匀光、整形后获得极均匀的高能量密度线型激光束,可实现大面积样品均匀扫描。准分子激光退火系统输出波长短,光子能量大,样品吸收深度小,主要用于薄膜材料的退火或改性研究,如低温多晶硅薄膜退火、光电功能薄膜材料开发等。

系统特点

  • 线扫描光束,可实现大面积样品均匀处理
  • 采用多级透镜整列匀光技术,光束均匀性好
  • 激光波长可选择308nm、248nm,351nm、193nm可定制
  • 线光束尺寸可定制 

技术参数 

型号ELA-308-100ELA-248-100ELA-248-50
激光波长308nm248nm248nm
激光束尺寸100mm×0.3mm100mm×0.4mm50mm×0.8mm
最大激光能量密度450 mJ/cm2200 mJ/cm2200 mJ/cm2
光束均匀度>92%>92%>92%
扫描步进精度5μm5μm5μm
处理气氛N2/AirN2/AirN2/Air
重量500Kg500Kg500Kg
冷却方式AirAirAir
外形(L×W×H)1600mm×1600mm×1400mm1800mm×900mm×1600mm1800mm×900mm×1600mm

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